Muegge Produits
230 / 208
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Source plasma à radicaux (Remote plasma Source)
Numéro de poste: MA1250C-003BC
ProcessusGravure et Dépôt (Revêtement)Type de connexion de sortieMatériau DiélectriqueCéramiqueTension d\'alimentation Nominal [V]230 / 208Puissance de sortie [W]1250Fréquence [MHz]2450Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)
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Source plasma à radicaux (Remote plasma Source)
Numéro de poste: MA2000C-083BB
ProcessusGravure et Dépôt (Revêtement)Type de connexion de sortieMatériau DiélectriqueCéramiqueTension d\'alimentation Nominal [V]230 / 208Puissance de sortie [W]2000Fréquence [MHz]2450Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)
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Source plasma à radicaux (Remote plasma Source)
Numéro de poste: MA2000C-123BB
ProcessusGravure et Dépôt (Revêtement)Type de connexion de sortieMatériau DiélectriqueCéramiqueTension d\'alimentation Nominal [V]230 / 208Puissance de sortie [W]2000Fréquence [MHz]2450Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)
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Source plasma à radicaux (Remote plasma Source)
Numéro de poste: MA2000C-133BB
ProcessusGravure et Dépôt (Revêtement)Type de connexion de sortieMatériau DiélectriqueCéramiqueTension d\'alimentation Nominal [V]230 / 208Puissance de sortie [W]2000Fréquence [MHz]2450Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)
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Source plasma à radicaux (Remote plasma Source)
Numéro de poste: MA2000C-143BB
ProcessusGravure et Dépôt (Revêtement)Type de connexion de sortieMatériau DiélectriqueSaphirTension d\'alimentation Nominal [V]230 / 208Puissance de sortie [W]2000Fréquence [MHz]2450Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)
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Source plasma à radicaux (Remote plasma Source)
Numéro de poste: MA2000C-223BB
ProcessusGravure et Dépôt (Revêtement)Type de connexion de sortieMatériau DiélectriqueCéramiqueTension d\'alimentation Nominal [V]230 / 208Puissance de sortie [W]2000Fréquence [MHz]2450Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)
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Source plasma à radicaux (Remote plasma Source)
Numéro de poste: MA2000C-233BB
ProcessusGravure et Dépôt (Revêtement)Type de connexion de sortieMatériau DiélectriqueCéramiqueTension d\'alimentation Nominal [V]230 / 208Puissance de sortie [W]2000Fréquence [MHz]2450Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)
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Source plasma à radicaux (Remote plasma Source)
Numéro de poste: MA2000C-703BB
ProcessusGravure et Dépôt (Revêtement)Type de connexion de sortieMatériau DiélectriqueCéramiqueTension d\'alimentation Nominal [V]230 / 208Puissance de sortie [W]2000Fréquence [MHz]2450Radikalquelle (Remote-Plasma-Quelle)