Muegge 제품

플라즈마 시스템

플라즈마 시스템
  • 캡슐화 장비

    제품 번호 : MA1250D-114BB

    도구유형
    R&D /파일럿 생산 장비
    주전원 전압 [V]
    480
    공정 가스 1
    O2
    공정 가스 2
    CF4
    공정 가스 3
    N2
    공정 가스 4
    -
    공정 가스 5
    -
    공정 가스 6
    -
    온도 센서
    -
    챔버 크기[mm(인치)]
    245 x 245 (9.65 x 9.65)
    자세한 내용은
  • 캡슐화 장비

    제품 번호 : MA3000D-211BB

    도구유형
    양산용 장비
    주전원 전압 [V]
    400
    공정 가스 1
    O2
    공정 가스 2
    O2
    공정 가스 3
    N2
    공정 가스 4
    CF4
    공정 가스 5
    SF6
    공정 가스 6
    Ar
    온도 센서
    -
    챔버 크기[mm(인치)]
    320 x 320 (12.60 x 12.60)
    자세한 내용은
  • 캡슐화 장비

    제품 번호 : MA3000D-241BB

    도구유형
    양산용 장비
    주전원 전압 [V]
    400
    공정 가스 1
    O2
    공정 가스 2
    O2
    공정 가스 3
    CF4
    공정 가스 4
    N2H2
    공정 가스 5
    SF6
    공정 가스 6
    N2
    온도 센서
    -
    챔버 크기[mm(인치)]
    320 x 320 (12.60 x 12.60)
    자세한 내용은
  • 캡슐화 장비

    제품 번호 : MA3000D-281BB

    도구유형
    양산용 장비
    주전원 전압 [V]
    400
    공정 가스 1
    O2
    공정 가스 2
    N2H2
    공정 가스 3
    CF4
    공정 가스 4
    N2
    공정 가스 5
    -
    공정 가스 6
    -
    온도 센서
    -
    챔버 크기[mm(인치)]
    320 x 320 (12.60 x 12.60)
    자세한 내용은
  • 캡슐화 장비

    제품 번호 : MA3000D-311BB

    도구유형
    양산용 장비
    주전원 전압 [V]
    400
    공정 가스 1
    O2
    공정 가스 2
    O2
    공정 가스 3
    N2
    공정 가스 4
    Ar
    공정 가스 5
    CF4
    공정 가스 6
    SF6
    온도 센서
    -
    챔버 크기[mm(인치)]
    320 x 320 (12.60 x 12.60)
    자세한 내용은
  • placeholder-muegge
    스트리핑 장비

    제품 번호 : MA0000D-001BB

    도구유형
    R&D /파일럿 생산 장비
    주전원 전압 [V]
    208
    공정 가스 1
    O2
    공정 가스 2
    N2
    공정 가스 3
    N2
    공정 가스 4
    -
    공정 가스 5
    -
    공정 가스 6
    -
    온도 센서
    2
    챔버 크기[mm(인치)]
    245 x 245 (9.65 x 9.65)
    자세한 내용은
  • placeholder-muegge
    스트리핑 장비

    제품 번호 : MA1250D-110BB

    도구유형
    R&D /파일럿 생산 장비
    주전원 전압 [V]
    208
    공정 가스 1
    O2
    공정 가스 2
    N2
    공정 가스 3
    N2
    공정 가스 4
    -
    공정 가스 5
    -
    공정 가스 6
    -
    온도 센서
    2
    챔버 크기[mm(인치)]
    245 x 245 (9.65 x 9.65)
    자세한 내용은
  • 스트리핑 장비

    제품 번호 : MA1250D-112BB

    도구유형
    R&D /파일럿 생산 장비
    주전원 전압 [V]
    400
    공정 가스 1
    O2
    공정 가스 2
    CF4
    공정 가스 3
    N2
    공정 가스 4
    -
    공정 가스 5
    -
    공정 가스 6
    -
    온도 센서
    2
    챔버 크기[mm(인치)]
    245 x 245 (9.65 x 9.65)
    자세한 내용은

플라즈마 시스템
반도체 장치는 일상 생활에서 필수적인 제품입니다. 반도체없는 미래는 상상할 수 없습니다. 그러나 이러한 구성 요소를 생산하려면 특수 장비와 깊은 지식이 필요합니다. 첨단 기술로 인해 플라즈마 시스템 및 플라즈마 기반 애플리케이션의 공정 제어는 새로운 도전에 직면하고 있습니다.

당사는 시장을 이해하고 최고의 마이크로웨이브 솔루션을 제공하기 위해 고객 및 연구 기관과 긴밀히 협력합니다. 당사는 기존의 플라즈마 접근 방식을 뛰어 넘어 고객의 공정과 결과를 더욱 발전시키는 제품을 개발하기 위해 노력합니다. 마이크로웨이브 지원 플라즈마 제품 생산 분야에서 당사의 선도적인 위치는 최저 구매 비용의 맞춤형 시스템으로 시장에 더 빨리 접근할 수 있도록 도와줍니다.

“SU-8 제거
유기물의 선택적인 제거
산소에 민감한 물질 세척용 비 산화 화학 (H2 공정)
3D 구조 세척
민감한 표면 (예: 센서)을 손상 없이 세척
등방성 챔버 세척
LIGA 공정 (리소그래피, 전기 도금 및 성형)