Muegge 제품

플라즈마 부품

플라즈마 부품
  • 상압 플라즈마 소스(APS)

    제품 번호 : MA075KA-019BF

    방법
    가스/ 물질 변환
    출력 연결 유형
    다른
    유전체 재료
    쿼츠
    출력 전력 CW [W]
    75000
    Frequenz [MHz]
    915
    도파관 구성 요소
    WR975 / R9
    리액터 출구
    outer ø131 mm. inner ø80 mm

    Atmosphärische-Plasma-Quelle

    자세한 내용은
  • 상압 플라즈마 소스(APS)

    제품 번호 : MA6000A-013BB

    방법
    가스/ 물질 변환
    출력 연결 유형
    다른
    유전체 재료
    쿼츠
    출력 전력 CW [W]
    6000
    Frequenz [MHz]
    2450
    도파관 구성 요소
    WR340 / R26
    리액터 출구
    ø30 mm x 1,5 mm x 200 mm

    Atmosphärische-Plasma-Quelle

    자세한 내용은
  • Down-Streem-Plasma-Source

    제품 번호 : MA010KD-013BF

    방법
    가스/ 물질 변환
    출력 연결 유형
    다른
    유전체 재료
    -
    출력 전력 CW [W]
    10000
    Frequenz [MHz]
    915
    도파관 구성 요소
    WR975 / R9
    리액터 출구
    -

    Down-Stream-Plasma-Quelle

    자세한 내용은
  • Down-Streem-Plasma-Source

    제품 번호 : MA100KD-013BF

    방법
    가스/ 물질 변환
    출력 연결 유형
    다른
    유전체 재료
    -
    출력 전력 CW [W]
    100000
    Frequenz [MHz]
    915
    도파관 구성 요소
    WR975 / R9
    리액터 출구
    -

    Down-Streem-Plasma-Quelle

    자세한 내용은
  • 플라즈마 어레이(대면적)

    제품 번호 : MA4000Y-013BC

    방법
    에칭 및 증착
    출력 연결 유형
    플라즈마 영역 320mm x 320mm
    유전체 재료
    세라믹
    출력 전력 CW [W]
    2000
    Frequenz [MHz]
    2450
    가스 매니폴드
    싱글

    Flächenplasmaquelle

    자세한 내용은
  • 플라즈마 어레이(대면적)

    제품 번호 : MA4000Y-083BC

    방법
    에칭 및 증착
    출력 연결 유형
    플라즈마 영역 320mm x 320mm
    유전체 재료
    세라믹
    출력 전력 CW [W]
    3000
    Frequenz [MHz]
    2450
    가스 매니폴드
    싱글

    Flächenplasmaquelle

    자세한 내용은
  • 플라즈마 어레이(대면적)

    제품 번호 : MA4000Y-093BC

    방법
    에칭 및 증착
    출력 연결 유형
    플라즈마 영역 320mm x 320mm
    유전체 재료
    세라믹
    출력 전력 CW [W]
    2000
    Frequenz [MHz]
    2450
    가스 매니폴드
    싱글

    Flächenplasmaquelle

    자세한 내용은
  • 플라즈마 어레이(대면적)

    제품 번호 : MA4000Y-103BC

    방법
    에칭 및 증착
    출력 연결 유형
    플라즈마 영역 338 mm x 408 mm
    유전체 재료
    세라믹
    출력 전력 CW [W]
    2x 2000
    Frequenz [MHz]
    2450
    가스 매니폴드
    싱글

    Flächenplasmaquelle

    자세한 내용은

플라즈마 부품
반도체 기술은 우리가 세상을 보는 방식을 바꾸었습니다. 그러나 플라즈마 처리를 통해 모두를 위한 제품을 만들 수 있었습니다. 고밀도 마이크로웨이브 지원 플라즈마 소스는 전기 전하 및 재료 손상없이 높은 에칭률을 요구하는 에칭 및 코팅 장비에서 가장 잘 작용합니다.

플라즈마 부품 제조업체로서 당사의 선도적인 역할은 최저 구매 비용으로 빠른 시장 진입을 달성하기 위해 시스템을 개발하고 통합하는 데 도움이 될 것입니다. 즉시 사용 가능한 당사의 플라즈마 부품군에는 다양한 제조 도구 및 어플리케이션을 위한 솔루션이 포함됩니다.

산화물 및 질화물 층의 고밀도 증착
대 면적 증착 및 에칭
SU-8 제거
유기물의 선택적 제거
산소 민감 물질 세척 용 비 산화 화학 (H2 공정)
민감한 표면 (예: 센서) 및 3D 구조의 손상없는 세척
등방성 챔버 세척
LIGA 공정 (리소그래피, 전기 도금 및 성형)